
众所周知,芯片制造的核心设备之一是光刻机。现在,世界上最先进的掩模光刻机是荷兰ASML的euv掩模光刻机。EUV光刻机目前是多少纳米?
到目前为止,世界上最先进的光刻机可以实现5nm的加工。也就是荷兰ASML的极紫外光刻(EUV),这是目前光刻机中最顶尖的设备。
在芯片加工中,光刻机利用一系列光源能量和形状控制手段,通过带有电路图的掩膜板传输光束。
光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输和高精度微环境控制等多项先进技术。是半导体行业技术含量最高的设备。
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